Эпитаксиальные процессы в технологии материалов электронной техники
Термин «эпитаксия» происходит от 2-х греческих слов эпи - «на» и глагола «таксис» - «располагать в порядке» и означает ориентированное наращивание, в результате которого образующаяся новая фаза закономерно продолжающая кристаллическую решетку подложки.
В современной микроэлектронике процессы эпитаксии занимают одно из ведущих мест, увеличивая выход годных изделий в планарной технологии в 4-5 раз (до 97-98%). Используется для наращивания Si, Ge, SiC, AIIIBV, KPT, сложных полупроводниковых структур.
По природе взаимодействия «подложка - растущая кристаллическая фаза» эпитаксиальные процессы подразделяются на:
автоэпитаксию (гомоэпитаксию)- процесс наращивания вещества, одинакового по структуре и химическому составу (отличие может быть в уровне легирования);
гетероэпитаксию - процесс наращивания вещества, отличающегося по химическому составу, но подобного по структуре с подложкой;
хемоэпитаксию – процесс ориентированного наращивания вещества продукта взаимодействия подложки и исходной фазы. Слой отличается по химическому составу от подложки и среды, но закономерно продолжает структуру подложки;
реотаксию – наращивание кристаллического слоя в условиях, близких к равновесным на подложке как механическом носителе (ни структура, ни химический состав подложки не соответствуют наносимому веществу).
По химической природе вещества в период переноса эпитаксиальные процессы бывают: прямыми (вещество переносится без промежуточных реакций) - вакуумные испытания, сублимация, молекулярная эпитаксия и непрямыми (вещество переносится вступая в химическую реакцию и образуя промежуточную фазу) – пиролиз, окисление, восстановление, диспропорционирование, химический синтез.
По агрегатному состоянию исходной фазы все эпитаксиальные процессы делятся на 1) газофазные (парофазные) газофазная эпитаксия; 2) жидкофазные жидкофазная эпитаксия; 3) эпитаксия в системе пар-жидкость-кристалл (ПЖК) (жидкая фаза представляет собой тонкую промежуточную пленку расплава Cu, Ag, Au, Fe); 4) эпитаксия в твердой фазе. Процесс сводится к перекристаллизации вещества в поверхностном слое твердой фазы или к синтезу его в поверхностном слое с последующей перекристаллизацией.
- Оглавление
- Классификация мэт
- Проводниковые материалы
- Физическая природа электропроводности металлов
- Зависимость электропроводности металлов от температуры и примеры
- Электрические свойства металлических сплавов
- Сопротивление проводников на высоких частотах
- Сопротивление тонких металлических плёнок. Размерный эффект
- Контактные явления в металлах
- Материалы высокой проводимости. Медь
- Алюминий
- Сверхпроводящие металлы и сплавы
- Специальные сплавы
- Сплавы для термопар
- Сплавы для корпусов приборов
- Тугоплавкие металлы
- Благородные металлы
- Неметаллические проводящие материалы
- Полупроводники. Классификация полупроводниковых материалов
- Собственные и примесные полупроводники
- Температурная зависимость концентрации носителей заряда.
- Подвижность носителей заряда в полупроводниках
- Электрофизические явления в полупроводниках.
- Кремний
- Физико-химические и электрические свойства Si
- Марки кремния.
- Германий
- Физико-химические и электрические свойства германия
- Карбид кремния (SiC)
- Полупроводниковые соединения аiii вv
- Твердые растворы на основе аiii вv
- Полупроводниковые соединения aiibvi и трз на их основе
- Полупроводниковые соединения aivbvi и трз на их основе
- Диэлектрики, классификация, основные свойства
- Электропроводность диэлектриков
- Потери в диэлектриках
- Пробой диэлектриков
- Полимеры в электронной технике
- Композиционные пластмассы и пластики
- Электроизоляционные компаунды
- Неорганические стекла
- Ситаллы
- Керамики
- Активные диэлектрики
- Сегнетоэлектрики
- Пьезоэлектрики
- Пироэлектрики
- Электреты
- Жидкие кристаллы
- Материалы для твердотельных лазеров
- Магнитные материалы. Их классификация
- Магнитомягкие материалы
- Магнитотвердые материалы
- Технология получения материалов электронной техники Методы получения тонких пленок
- Вакуумные методы. Термическое вакуумное напыление.
- Кинетика процесса конденсации. Роль подложки
- Создание вакуума в вакуумных установках
- Измерение вакуума
- Вакуумные установки термического напыления
- Катодное вакуумное распыление (диодное)
- Ионно - плазменное распыление
- Эпитаксиальные процессы в технологии материалов электронной техники
- Механизм процесса эпитаксии
- Автоэпитаксия кремния
- Гетероэпитаксия кремния
- Эпитаксия полупроводниковых соединений аiiibv и трз на их основе
- Температурно - временной режим эпитаксии
- Эпитаксия SiC
- Оборудование для наращивания эпитаксиальных слоев
- Элионные технологии
- Ионно-лучевые установки
- Механическая обработка полупроводниковых материалов
- Шлифование и полирование пластин
- Химическая обработка поверхности полупроводника
- Методы отчистки поверхности
- Фотолитография (операции, материалы)
- Нанотехнология, определения и понятия
- Инструменты для измерения наноструктур
- Наноструктуры и наноустройства
- Методы нанотехнологий