Создание вакуума в вакуумных установках
В технологических установках используют следующие устройства откачки воздуха для создания вакуума:
1. Механические форвакуумные насосы.
Механическое компрессирование с масляным уплотнением, осуществляют с помощью механических форвакуумных насосов, которые создают вакуум путем периодического изменения объема рабочей камеры насоса. Качество работы зависит от точности пригонки деталей насоса. Пленка масла в подвижных сочленениях насоса непроницаема для откачиваемого газа. Форвакуумное масло должно иметь низкое давление паров, не окисляться, обладать повышенной вязкостью для создания прочной уплотнительной пленки. Двухступенчатый форвакуумный насос ВН 461М дает разряжение ~ 10-3 мм.рт.ст.
2. Адсорбционные форвакуумные насосы.
Принцип работы - физическая адсорбция. По сути представляют собой безмасляную форвакуумную откачку. Работа основана на поглощении пористыми телами газов и паров. В насосе ЦВН 01 в качестве адсорбента используют цеолит с диаметром пор 5А°. Десорбция газов проводиться нагревом, затем адсорбент охлаждается жидким азотом с использованием сосуда Дьюара. Недостатки - большой расход азота, плохая откачка Ar и H2.
Для создания более глубокого вакуума используют диффузионные насосы. Это уже высоковакуумные насосы. рисунок с. 74
3. Диффузионные насосы.
Принцип работы - захват и вынос молекул газа путем диффузии в струю пара переносчика, который используется в пароструйных высоковакуумных насосах. Для этого используются пар высоковакуумных масел (силикон, ВМ-1, ВМ-5, масла ПФМС-2, ТУ ГКХ КЧ-245-62), марки насосов: Н-2Т, Н-1С-Б, Н-20Т.
Отработанные пары масла конденсируются у выхода насоса на специальных охлаждающих стенках. Конденсат стекает в испаритель, освобождая молекулы газа, которые далее удаляются форвакуумным насосом. Диффузные масляные насосы относительно дешевы и обеспечивают остаточное Р =10-6 Па. Однако для улавливания паров масла требуют вымораживающие ловушки, охлаждение жидким азотом.
4. Гетеро - ионные насосы.
Хемосорбция (активных газов) и блокирование (инертных газов) лежит в основе работы гетеро-ионных насосов. В них масло отсутствует. Поглощающим веществом служит свежеосажденный слой Ti, Ti-Mo сплава или Cr, полученные электронно-лучевым или ионным распылением. Во втором случае насосы называются электроразрядными. Процесс откачки включает ионизацию остаточных молекул газа электронами с катода и ионное распыление титана катода (другие газы). При выключении адсорбированные газы выделяются. Марки насосов: ГИН-05, ГИН-2, ГИН-5. Недостатки: нестабильность работы при Р<10-2Па, приводящая к колебаниям величины вакуума из-за освобождения атома Ar из катода.
Для получения высокого вакуума в вакуумном агрегате объединяют 2-3 насоса с различными характеристиками. Обычно колпак вакуумной камеры имеет значительный объем (h=0.75м, диаметр 0,5 м) В связи с этим насосы должны иметь производительность, обеспечивающую за 10 минут откачку до 10-4 Па.
- Оглавление
- Классификация мэт
- Проводниковые материалы
- Физическая природа электропроводности металлов
- Зависимость электропроводности металлов от температуры и примеры
- Электрические свойства металлических сплавов
- Сопротивление проводников на высоких частотах
- Сопротивление тонких металлических плёнок. Размерный эффект
- Контактные явления в металлах
- Материалы высокой проводимости. Медь
- Алюминий
- Сверхпроводящие металлы и сплавы
- Специальные сплавы
- Сплавы для термопар
- Сплавы для корпусов приборов
- Тугоплавкие металлы
- Благородные металлы
- Неметаллические проводящие материалы
- Полупроводники. Классификация полупроводниковых материалов
- Собственные и примесные полупроводники
- Температурная зависимость концентрации носителей заряда.
- Подвижность носителей заряда в полупроводниках
- Электрофизические явления в полупроводниках.
- Кремний
- Физико-химические и электрические свойства Si
- Марки кремния.
- Германий
- Физико-химические и электрические свойства германия
- Карбид кремния (SiC)
- Полупроводниковые соединения аiii вv
- Твердые растворы на основе аiii вv
- Полупроводниковые соединения aiibvi и трз на их основе
- Полупроводниковые соединения aivbvi и трз на их основе
- Диэлектрики, классификация, основные свойства
- Электропроводность диэлектриков
- Потери в диэлектриках
- Пробой диэлектриков
- Полимеры в электронной технике
- Композиционные пластмассы и пластики
- Электроизоляционные компаунды
- Неорганические стекла
- Ситаллы
- Керамики
- Активные диэлектрики
- Сегнетоэлектрики
- Пьезоэлектрики
- Пироэлектрики
- Электреты
- Жидкие кристаллы
- Материалы для твердотельных лазеров
- Магнитные материалы. Их классификация
- Магнитомягкие материалы
- Магнитотвердые материалы
- Технология получения материалов электронной техники Методы получения тонких пленок
- Вакуумные методы. Термическое вакуумное напыление.
- Кинетика процесса конденсации. Роль подложки
- Создание вакуума в вакуумных установках
- Измерение вакуума
- Вакуумные установки термического напыления
- Катодное вакуумное распыление (диодное)
- Ионно - плазменное распыление
- Эпитаксиальные процессы в технологии материалов электронной техники
- Механизм процесса эпитаксии
- Автоэпитаксия кремния
- Гетероэпитаксия кремния
- Эпитаксия полупроводниковых соединений аiiibv и трз на их основе
- Температурно - временной режим эпитаксии
- Эпитаксия SiC
- Оборудование для наращивания эпитаксиальных слоев
- Элионные технологии
- Ионно-лучевые установки
- Механическая обработка полупроводниковых материалов
- Шлифование и полирование пластин
- Химическая обработка поверхности полупроводника
- Методы отчистки поверхности
- Фотолитография (операции, материалы)
- Нанотехнология, определения и понятия
- Инструменты для измерения наноструктур
- Наноструктуры и наноустройства
- Методы нанотехнологий