Ионно-лучевые установки

Используются для ионной имплантации.

Ионно-лучевые ускорители построены на базе масс-спектрометров. Состоят из: ионного источника (дуговой разряд в камере), вакуумной камеры, заполненной B₂H_6, PCl₃, S, P, As, Sb, Zn, электромагнитного анализатора, приемника ионов, системы управления ионным пучком. Дозы облучения могут достигать 10¹¹-10¹⁷ ион/см².

Установка ИЛУ-3:

• энергия однозарядовых ионов до 100 кЭВ;

• ширина ионного пучка в средней плоскости – 120 мм;

• площадь обработки 20 - 50 см² (до 100 см²);

• производительность  1м² обработки за 100 мин;

• температура тигля источника 900°С;

• мощность 45 кВт;

• площадь, занимаемая установкой 58 м².

Серия установок В-1, В-2, В-2Б, В-3, В-4, В-5 используется для обработки пластин диаметром 40, 50, 60, 80 мм.

«В-2» имеет энергию ионов до 200 кЭВ.

Установка «Везувий» может получать пучки с энергией до 300 кЭВ.

Установка «Danphysic» может получать пучки до 500 кЭВ (напряжение до 800 - 100 кВ на одном каскаде ускорения).