Теория катодного падения потенциала
Теория катодного падения потенциала, разработанная Энгелем и Штеенбеком, имеет огромное значение для понимания физики тлеющего разряда. Так как ток разряда формируется в области катодного падения потенциала, то вид ВАХ разряда аналогичен ВАХ катодного слоя. Для определения зависимости Uк = f(I) запишем уравнение Пуассона для слоя положительного пространственного заряда у поверхности плоского катода:
, (1.6)
где j+ , j– – электронная и ионная составляющие тока в слое пространственного заряда, Е(х) – напряженность поле в слое, –, + – подвижности электронов и ионов.
Полный катодный ток равен
j =j–к+j+к, аj–к=j+к, (1.7)
где – коэффициент вторичной эмиссии. После преобразований получаем ВАХ в виде
, (1.8)
где Uк – падение напряжения в катодном слое, dк – длина катодного падения (области 1-3, рис. 2). Чтобы исключить переменный параметр dк, воспользуемся условием пробоя газа в катодном слое:
. (1.9)
После интегрирования получаем универсальную ВАХ в обобщенных координатах:
, (1.10)
для которой константы С1 и С2 имеют вид:
, (1..11)
а S – это табулированный интеграл
где . (1.12)
Зависимость (1.10) представлена на рис. 1.4. Если плотность тока умножить на площадь рабочей поверхности катода Sк, то перейдем к зависимости вида Uк = f(Iк). Практически, полученная таким образом теоретическая зависимость не соответствует реальной. Действительно, на участке ав уменьшение тока Iк влечет за собой уменьшение jк и Uк, так как падает интенсивность - и процессов. Начиная с точки в, изменение тока Iк, равного jкSк, связано с изменением поверхности катода, занятой разрядом. Uк при этом остается постоянной величиной. Вольт-амперная характеристика в виде участка вd в реальных условиях существовать не может и будет иметь вид вс. Участок вс соответствует области нормального тлеющего разряда, а участок bа – области аномального разряда. Для нормального тлеющего разряда характерны постоянная нормальная плотность тока – jкн, и постоянное, не зависящее от тока нормальное катодное падение потенциала Uкн.
Рис. 1.4. Теоретическая зависимость Uк = f(jк), (1) и реальная ВАХ тлеющего разряда, 2
При аномальном тлеющем разряде поверхность катода полностью занята разрядом. Ток растет за счет увеличения jк, определяемой интенсивностью - и процессов. Для упрощения расчетов и получения явной аналитической зависимости Uкa(p, j) и dкa(p, j) вместо (1.8) и (1.10) используют эмпирические формулы
= + , (1.13)
где a, b, K – константы, зависящие от вида газа и материала катода. При росте Uкa ток Iк быстро увеличивается, а dкa – уменьшается. Это приводит к возрастанию градиента потенциала в катодной области и, следовательно, к увеличению энергии частиц (табл. 2 и 3).
Таблица 2
- Исследование тлеющего разряда
- Вольт-амперная характеристика разряда
- Структура и внешний вид разряда
- Теория лавинного пробоя Таунсенда
- Теория катодного падения потенциала
- Нормальное катодное падение Uн [b]
- Нормальная толщина катодного слоя pd [тор.См]
- Теория диффузионного положительного столба тлеющего разряда
- Оценочные значения параметров электрона в плазме для различных газов
- Описание экспериментальной установки
- Задание и методика выполнения работы
- Содержание отчета
- Контрольные вопросы
- Лабораторная работа 2
- Одиночный зонд ЛеНгмюра
- Цель работы: изучение методики измерения параметров плазмы методом одиночного зонда Ленгмюра.
- Метод одиночного зонда
- Описание экспериментальной установки и методика измерения
- Задание к лабораторной работе
- Противозонд
- Описание экспериментальной установки и методика измерения
- Описание экспериментальной установки
- Построение калибровочной кривой
- 1, 2, 3, 4 – Положение эталонных линий на спектре; х – неизвестная линия
- Методика спектрального исследования плазмы
- Результаты измерений
- Расчет температуры электронов методом относительных интенсивностей спектральных линий
- Задание к лабораторной работе
- Контрольные вопросы
- Рекомендуемая литература
- Оглавление