Похожие главы из других работ:
Методи виготовлення планарних оптичних хвилеводів та дослідження їхніх характеристик
Метод термічного випаровування діелектрика у вакуумі, який широко використовується у технології виготовлення тонких плівок (напр., просвітлюючих покрить, дуже рідко використовується для виготовлення хвилеводів...
Методи одержання і вимоги до діелектричних плівок
· термічне окислення;
· анодне окислення;
· хімічне осадження.
В даній роботі також розглянуто переваги і недоліки кожного з цих методів, як залежить тиск, температура та інші чинники на формування тонких діелектричних плівок...
Методи одержання і вимоги до діелектричних плівок
Метод іонно-плазмового розпилення включає в себе реактивне розпилення і розпилення в високочастотних розрядах...
Методи одержання і вимоги до діелектричних плівок
Системи для іонно-плазмового розпилення називають трьохелектродним або тріодним. На рис. 2.1а, показана схема установки для розпилення матеріалів в плазмі газового розряду низького тиску з штучним катодом...
Методи одержання і вимоги до діелектричних плівок
Одержані таким чином плівки мають велику міцність і хорошу однорідність і не кришаться при розрізанні підкладки на пластини. При високочастотному розпиленні немає необхідності нагрівати підкладку...
Методи отримання плівкових матеріалів електронної техніки
рідкофазний епітаксія плівковий термічний
Іонно-плазмові методи набули широкого поширення в технології електронних засобів завдяки своїй універсальності і ряду переваг у порівнянні з іншими технологічними методами...
Методи отримання плівкових матеріалів електронної техніки
Конструкція установки для катодного розпилення, що зображена на рис. 1.2, складається з газорозрядної камери (1), в яку вводиться робочий газ (зазвичай аргон) під тиском 1-10 Па; катода (2)...
Методи отримання плівкових матеріалів електронної техніки
Розглянуті вище методи отримання тонких плівок використовують постійні напруги, що прикладаються до електродів системи розпилення мішені. Це дозволяє розпилювати мішені тільки з електропровідних або напівпровідникових матеріалів...
Методи отримання плівкових матеріалів електронної техніки
Забруднення плівок металів домішковими атомами є одним із головних недоліків іонного розпилення. Проте в деяких випадках є бажаним одержання хімічних сполук металу та газу. Тому хімічно активний газ (N2, O2, H2 та ін...
Методи отримання плівкових матеріалів електронної техніки
Прагнення знизити тиск робочого газу в камері і збільшити швидкість розпилення мішеней привело до створення методу магнетронного розпилення. Один з можливих варіантів схем магнетронного розпилювача представлений на рис.1.4...
Методи отримання плівкових матеріалів електронної техніки
Тонкі плівки різних матеріалів можна наносити на підкладку, випаровуючи матеріал мішені пучком іонів інертних газів...
Методи отримання плівкових матеріалів електронної техніки
Лазерне розпилення - унікальний технологічний процес, що дозволяє нанести на поверхню деталей матеріали, що володіють спеціальними властивостями, (метали, карбіди і т.д.), досягаючи, таким чином, відновлення геометрії...
Методи отримання плівкових матеріалів електронної техніки
- газофазна МОС-гідридна епітаксія з використанням металоорганічних сполук;
- рідкофазна епітаксія;
- електрохімічне осадження покриттів;
- хімічна металізація.
Детально розглянемо ці методи...
Методи отримання плівкових матеріалів електронної техніки
На відміну від фізичного розпилення реактивне катодного розпилення відбувається в тліючому розряді суміші інертного та активного газів...
Фізико-технологічні основи металізації інтегральних схем
Рис 3.3. Іонно-плазмове напилення
Схема цього методу показана на рис 3.3. Головна його особливість в порівнянні з методом катодного напилення полягає в тому...